VIP-lid
Zuurstofloze oven met hoge temperatuur
Hoogprestatieve zuurstofloze ovens kunnen thermische behandeling uitvoeren bij temperaturen tot 500 ° C in een atmosfeer met een zuurstofconcentratie
Productdetails
Overzicht van de apparatuur
Hoogprestatieve zuurstofloze ovens kunnen thermische behandeling uitvoeren bij temperaturen tot 500 ° C in een atmosfeer met een zuurstofconcentratie tot 500 ppm. Dit maakt de serie ideaal voor MLCC- en LTCC-ontvetting, evenals een verscheidenheid aan antioxidante warmtebehandelingen. De hogetemperatuurzuurstofloze oven maakt gebruik van een gepatenteerde kamerconstructie en afdichtingstechnologie die uitstekende luchtdichtheid en temperatuuruniformiteit biedt en tegelijkertijd een hogere stabiliteit en reproduceerbaarheid garandeert. Tegelijkertijd kan een externe koelmachine die door koelwater wordt gecircleerd, snel worden afgekoeld zonder de atmosfeer in de oven te beïnvloeden, waardoor de behandelingstijd wordt verkort.
II. Toepassingsgebied
Geschikt voor het uitharden van halfgeleiderwafels (photogravure PI, PBO-uitharding), IC-verpakkingen (koperen substraten, zilveren gel, siliconen, epoxyharsen), bakken van glazen substraten, hoge nauwkeurigheid ontharding, enz.
| Toepassingsgebied |
Verwarmingsdoeleinden |
Verwarmd object |
| Elektronische componenten |
Ontvet (sinteren van lijm), uitharden |
Keramische materialen / platen, MLCC (Multi-Layer Ceramic Capacitor), LTCC (Low Temperature Coburning Ceramics), Keramische O2-sensor, Ferroxide Magnetic Core, FPC (Flexible Printed Circuit), Common Mode Noise Filter, Thermostor |
| Precisiegrondstoffen |
Ontvet, uitharden, uitharden, sinteren, drogen |
Wafer, silicium plaat, silicium carbide keramiek, elektrostatische zuiger, aluminiumnitride, optische lensen, flexibele substraten, oplaadbare batterijen, elektrodemateriaal, draadbandel (koperdraad), katalysator, smeedwerk |
Parameters van het product
Modelnummer |
YH-OXY-500C |
Werkstabiliteit |
Normale temperatuur - 500°C |
Maximaal zuurstofgehalte |
Binnen 50 ppm |
Koelmethode |
Waterkoeling |
Afmetingen | |||
Werkgrootte |
H600 * W600 * D600mm |
||
Studio's | |||
Aantal studio's |
Eenpersoonlijke studio met 4 verdiepingen |
||
Interne configuratie |
Configuratie met 4 roestvrijstalen laagstukken met een roostvrijstalen gaatplaat en verstelbare laagstukken |
||
Windverwarmingssysteem | |||
Verhittingssnelheid |
Opwarmingssnelheid 8-10 ℃ / min, thermostatische tijd kan worden beheerd |
||
Koelsnelheid |
500 ℃ koelen tot 100 ℃ ≤ 50 minuten (afhankelijk van de temperatuur van het koelwater, de tijd verschilt) |
||
Stickstofvullingsapparaat |
Automatische regeling van het stikstofoplaadproces om ervoor te zorgen dat het product wordt verwarmd in een zuurstofvrije of lage zuurstofconcentratie omgeving om oxidatie van het product te voorkomen |
||
Elektrische apparatuur | |||
Overtemperatuurbescherming |
Onafhankelijke intelligente thermostat, automatisch uitschakelen van de verwarmingsstroom wanneer de daadwerkelijke detectie van de temperatuur hoger is dan de instellingen van de overtemperatuurbeschermer, dubbele bescherming |
||
Beschermingssysteem |
Apparatuur met afbrekende fase detectie, zelfdiagnose, lekkagebescherming, overtemperatuurbescherming, onafhankelijke opslag van noodparameters, zelfdiagnose van de sensor, overbelastingsbescherming, aardingsbescherming, bescherming tegen oververhitting van de ventilator, batterijtoegangsbescherming |
||
Gebruiksomgeving |
Omgevingsomstandigheden: temperatuur tussen 5 ~ 40 ℃: humidity≤85% R.H 电源： AC380V, 50 Hz Gebruiksomgeving: geen sterke trillingen, geen sterke magnetische invloed, geen corrosief gas, geen stof. Luchtdruk 86~106Ka Stickstofbron: 0.8MPA, 100L / MIN Wandafstand ≥500mm |
||
Online onderzoek
-
Contactpersonen
-
Bedrijf
-
Telefoon
-
E-mail
-
WeChat
-
Verificatiecode
-
Berichtinhoud
-